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intel 芯片工艺终于更新 10nm,7nm工艺来袭

Intel 于美国当地时间5 月8 日,于加州圣塔克拉拉举办2019 Investor Meeting,会中提到不少对于未来1~2 年内的产品规划,包含首次大规模量产的10nm 工艺,将会在今年6 月由Ice Lake 处理器在移动市场推出,接着就是首次使用EUV 的7nm 工艺,预计将使用在Xe 架构GPGPU。

Intel 曾经小量出货采用10nm 工艺的Core i3-8121U,但很可惜的是代号Cannon Lake 处理器也就这么101 款,甚至应该连同出现的Gen10 显示绘图架构也随着Core i3-8121U 屏蔽不使用而无缘在市场相见。Cannon Lake 原本预计接替Kaby Lake,但最终以小改的Coffee Lake 和Coffee Lake Refresh 接棒,Cannon Lake 可说是完全消失,只在消费市场留下300 系列晶片组的身影。

原本预计接替Cannon Lake 的Ice Lake,目前看来状况良好,Intel 于美国当地时间5 月8 日举办2019 Investor Meeting,宣布采用10nm 工艺的代号Ice Lake 处理器,将于今年6 月在行动市场先发出货。按照Intel 的说法对比前一世代,此一平台将提供3 倍快无线网路速度、2 倍快影片转档、2 倍快绘图显示效能、约2.5~3 倍快的AI 表现,预计今年年底元旦与新年假期即可由OEM 合作伙伴推出相关产品。

intel 芯片工艺终于更新 10nm,7nm工艺来袭

与此同时,10nm Ice Lake 也会在2020 年上半年进入服务器市场,10nm 工艺还会有一代Tiger Lake,预计导入新款Core 微架构,并应用于主流工作站、桌面电脑、移动市场,绘图显示架构则是从Ice Lake 的Gen11 变更为Gen12,其余详细资讯则尚未公布。

更进一步,Intel同时表示自家7nm工艺开发状况良好,7nm可提供2倍的电晶体密度并同时提升约20%的功耗,7nm也是Intel首次在工艺当中使用EUV极紫外光。首款使用7nm制成的产品,为Intel X e架构GPGPU,而该公司预计将于2020年推出首款独立GPU显示卡。(其实Intel很久以前曾经推出Intel740显示卡,也别忘了最后变成运算加速卡Xeon Phi的Larrabee。)

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